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膜厚测量

多重无损测量,包括掩膜.
样品无需特别校准鉴定.
快速执行,100%采样控制.

特点
  • 快速无损测量从100 nm 到 150 µm 膜厚(根据膜/基板的性质).
  • 可添加到全部Axiospect检测系统中或单独的Axiotron系统中.
  • 应用于半导体器件: resist, 氧化物, 硅层氮化物, 金属, III-V 金属 如GaAs等.
  • MEMS应用: 硅膜测量, buried air cavern 量测等.
  • 有模拟量测及覆盖分析的选项.
  • 所需数据可以很容易的从物理手册或制造商数据表中找到 (e.g. 柯西系数)
  • 手动操作模式及含扫描能力的全自动模式 (检查和复检的点检测功能)
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