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Makro-Station

Für Wafer und Masken.
Zwei unabhängige Beleuchtungen.
Softwareunterstützte Defektdokumentation.

Eigenschaften
  • Vierachsensystem (Rotation, Drehung, Neigung, Vorder-/Rückseitenwechsel)
  • Bequeme Positionierung mittels Joystick oder Softwarebefehl
  • Vierpunktauflage mit PEEK-Greifern vermeidet Kontamination
  • Minimierter Greifbereich erlaubt Inspektion von nahezu 100% der Waferfläche auf Vorder- und Rückseite
  • Maximale Sicherheit bei der Handhabung: Alle Bewegungen der Makrostation sind nur mit geschlossenen Greifern möglich; Be- und Entladung kann nur in speziellen, gesicherten Lagen erfolgen
  • Seitenwechsel des Wafers erfolgt in weniger als drei Sekunden

Beleuchtungen
  • Homogene Hellfeldbeleuchtung der gesamten Waferfläche mittels Leuchtstofflampenfeld
  • Superhelle Dunkelfeldbeleuchtung mit Hochleistungs-LEDs
  • Lange Lebensdauer der Lichtquellen von bis zu 20.000 Stunden erlaubt geringe Betriebskosten
  • Schutz vor ungewollter Belichtung von Resistwafern mittels flächigen Farbfiltern. Für andere Anwendungen, die Weißlicht erfordern, z.B. in OQA, kann der Filter binnen kurzer Zeit entfernt werden
  • Rezepteinstellungen ermöglichen Festlegung der Beleuchtungsart und -helligkeit, Waferseite und -position abhängig von der jeweiligen Inspektions- oder Dokumentationsaufgabe

Unterstützte Substrate
  • Standardkonfiguration unterstützt 200 mm, 300 mm oder 450 mm wafer
  • Für den gleichzeitigen Einsatz für 150 mm und 200 mm Wafer sind Waferadapter verfügbar. Die Adapter können im Feld auch von durchschnittlich geschultem Personal getauscht werden
  • Die Makrostation kann für Substrate von ~250 µm bis >3 mm konfiguriert werden
  • Das zulässige Probengewicht kann bis ca. 600g betragen
  • Mittels eines modifizierten Greifers ist auch die Inspektion von Masken möglich
  • Die Anpassung an andere flache Substrate als Masken oder Wafer ist möglich
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