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宏观检测

适用于晶圆和光罩.
两个独立光源.
软件支持缺陷影像存储功能.

特点
  • 四轴系统 (旋转, spin, 倾仰, 翻转).
  • 经由控制杆和软件位置可以被灵活的控制.
  • 四点边缘接触保证最小污染.
  • 最小的夹取面积保证几乎100%的晶圆正反面可被检查.
  • 最大运转安全: 当 gripper 夹紧时才允许晶圆移动 .
  • 不到3秒可将晶圆翻转到另一面.


照明系统
  • 同质明场照明:使用阵列式荧光灯照亮整个Wafer区域.
  • 高能LED灯泡超明暗场照明.
  • 2万小时的超长使用寿命保证低使用成本.
  • 使用色彩滤光片保护有光阻的晶圆,并可移除色彩滤光片在OQA使用白光照明.
  • 在recipes设定下可满足晶圆检测在不同位置,晶圆正反面,对比度,亮度的需求.


样品
  • 200,300,450mm晶圆作为标准配置.
  • 转换套件可以从200 mm 到150 mm自由转换. 经过简易培训的人员就可以操作.
  • 宏观可以检查250微米到3毫米厚度的晶圆.
  • 支持样品重量可达600克.
  • 通过改变夹具组件可以实现光罩检查
  • 同样适用于(圆形,方形,其他形状)的样品.
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